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采用涂布技术虽然很容易实现大规模的制备，较搞但是得到的单晶阵列中晶体与晶体间的取向、较搞形貌（包括尺寸、厚度等）都存在较大的差异，导致最终所获器件与器件间的性能相差很大，不利于集成器件的应用。这避免了晶体在此处的多倍成核行为，些比笑的新闻保证了在后续晶体生长中取向的一致性。
较搞图二：利用通道限制的弯液面自组装法制备晶圆级有机半导体单晶阵列(a)晶圆级有机半导体单晶阵列生长的示意图。些比笑的新闻(d,e)基底不同区域有机半导体单晶的TEM表征结果。
